型号：ABM/6/350/NUV/DCCD/BSIR/M  

厂商：美国ABM公司  

设备参数  

放大倍率：90X~600X可调  

600X时图形分辨率3μm  

光源：11.8mW/cm2@365nm  

6英寸均匀光束  

均匀性：±2-3%（4英寸）  

±3-5%（6英寸）  

光刻分辨率：1μm  

曝光时间：0~999.9s  

模式：接近、真空硬接触、软接触  

5×5英寸真空掩模板夹持器  

主要附件  

匀胶机、热板 

主要用途：  

适用于2、3、4英寸硅片及不规则碎片和透明基片的光刻。